南京大学离子束刻蚀系统（IBE）项目中标结果处理，北京埃德万斯离子束技术研究所斩获价值358万元的订单。下面介绍一下离子束刻蚀系统
离子束刻蚀系统是一种利用高能离子束对材料表面进行物理轰击，实现纳米级精度刻蚀的工艺试验仪器，其核心原理、系统组成、技术特点及应用领域如下：
一、核心原理
离子束刻蚀通过电离惰性气体（如氩气、氪气、氙气）生成等离子体，利用栅极引出加速离子束，以物理溅射方式剥离材料表面原子。高能离子轰击靶材时，能量传递至表面原子，当原子积累的能量超过其结合能时，脱离固体表面形成溅射，从而实现刻蚀。该过程为纯物理过程，无化学反应参与，可避免化学刻蚀导致的掩膜下底切现象，适用于高精度亚微米级图形制备。
二、系统组成
离子束刻蚀系统通常由以下核心模块构成：
离子源：产生高能离子束的核心部件，常见类型包括ECR型、RF型等，支持惰性或活性气体电离。
真空系统：由分子泵、机械泵及真空计组成，确保刻蚀环境的高真空度（极限真空度可达8.5×10?? Pa），减少气体分子对离子束的干扰。
工艺腔室：集成基板支架、离子束引出装置及温度控制系统，支持基板旋转、倾斜及冷却，保障刻蚀均匀性。
气路系统：配备质量流量计，精确控制反应气体流量，维持腔室压力稳定（工作压强范围1×10?? Pa至1.3×10?? Pa）。
电源与电气系统：提供离子源加速电压（300-2000V连续可调）、束流密度（0.16-0.20mA/cm?）及离子能量（100-1000eV）的精准控制。
三、技术特点
高精度与高分辨率：刻蚀线条宽度可达纳米级，侧壁角度偏差≤1.5°，深度均匀性波动±3%以内，满足亚微米级图形转移需求。
多材料适应性：可刻蚀金属（如Ni、Cu、Au）、半导体（如Si、GaAs）、陶瓷（如SiO?、TiO?）及聚合物等材料，支持硬质薄膜加工。
工艺灵活性：离子能量与束流密度独立可控，支持物理刻蚀（IBE）与化学辅助刻蚀（CAIBE）模式切换，适应不同材料与工艺需求。
高稳定性与长寿命：采用高稳定性设计，如水冷系统维持基板温度（10-25℃），防止图形畸变，保障长期运行精度。
四、应用领域
微纳光学加工：用于制备衍射光学元件、全息光栅等，通过复合工艺（如Ar离子束预刻蚀与CHF反应刻蚀）优化光栅掩模占宽比与槽深均匀性。
半导体制造：支持Ⅲ-Ⅴ族化合物及硬质薄膜处理，如减薄石英晶体、制作微电子器件结构等。
航空航天：实现高精度材料加工与微结构制作，如传感器件表面处理、光学元件抛光等。
科研领域：在物理学研究中用于微结构光电器件样品制备，如声表面波器件、磁泡储存器等。
一、项目编号：GZH2502230（JSHC-2025060430A3）（招标文件编号：GZH2502230（JSHC-2025060430A3））
二、项目名称：南京大学离子束刻蚀系统（IBE）
三、中标（成交）信息
供应商名称：北京埃德万斯离子束技术研究所股份有限公司
供应商地址：北京市海淀区地锦路33号院1号楼1层01
中标（成交）金额：358.0000000（万元）
四、主要标的信息
| 序号 | 供应商名称 | 货物名称 | 货物品牌 | 货物型号 | 货物数量 | 货物单价(元) |
| 1 | 北京埃德万斯离子束技术研究所股份有限公司 | 离子束刻蚀系统 | 埃德万斯 | RFIBE-30 | 1套 | 3580000 |
| 公告信息： | |||
| 采购项目名称 | 南京大学离子束刻蚀系统（IBE） | ||
| 品目 | 货物/设备/电子和通信测量仪器/元件器件参数测量仪/半导体器件参数测量仪 | ||
| 采购单位 | 南京大学 | ||
| 行政区域 | 江苏省 | 公告时间 | 2025年12月15日 11:45 |
| 评审专家名单 | 石军、陈绍丽、杨洪、朱学英、谢航（采购人代表） | ||
| 总中标金额 | ￥358.000000 万元（人民币） | ||